化学真空系统 PC 620 select 

描述

对于一台泵同时运行两个独立的真空应用需求，此款化学真空系统是一个既经济又有效的解决方案。基础泵是备受欢迎的MD 4C NT三级隔膜泵，PC 620 select常用于含高沸点溶剂的真空应用。该泵能够同时搭配两个独立的真空应用使用。
两个电子真空控制端口都内置单向止回阀，能够防止交叉污染互相影响。集成式的VACUU·SELECT真空控制器采用直观、基于应用程序的用户界面，覆盖了所有实验室常见真空应用。VACUU·SELECT真空控制器可满足您所有要求。对于简易实验过程可手动修改控制参数，直接蒸馏，或者通过简单的“拖放”操作编辑创建自己的应用程序。在溶剂蒸发过程中，电子控制端口能持续监测压力，当溶剂沸点被探测到时切换至两点法控制，将压力维持在一个稳定的水平。进气口分离瓶由玻璃制成，外覆一层保护膜，能防止颗粒和液滴进入泵内，防止泵损坏，延长泵的使用寿命。当连接冷水管道或循环制冷机时，出气口废气冷凝器可以实现溶剂将近100%回收，从而实现循环经济和环境保护。

性能特性

• 配置图形用户界面的VACUU·SELECT真空控制器能简化实验室工作
• 预定义的应用程序能节省时间，并得到可重复的结果
• 简易操作的应用编辑器允许编辑一系列自定义真空应用
• 满足高真空需求，如绝大多数高沸点溶剂
• PC 620 select可以利用电子真空控制同时运行两个独立的真空应用

化学真空系统 PC 620 select技术指标：